纳米压印概念发酵 汇创达涨超11%

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2、消息面上，日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。

3、随着掩模技术的进一步改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。

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